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等离子刻蚀设备

高精度等离子刻蚀，适用于逻辑、存储芯片及功率器件。

薄膜沉积系统

CVD / PVD 薄膜沉积，覆盖氧化物、氮化物及金属薄膜。

单片湿法清洗设备

高效去除晶圆表面颗粒及金属污染，保障良率提升。